K&F Concept Nano-X Ultra-Low Reflection Circular Polarizer Filter 58mm

K&F Concept Nano-X Ultra-Low Reflection Circular Polarizer (CPL) filter on tipptasemel optiline tarvik, mis on loodud fotograafidele, kes soovivad pildikvaliteeti parandada, vähendades pimestust ja peegeldusi. Valmistatud Jaapani AGC optilisest klaasist ja täiustatud 28-kihilise nanokatte tehnoloogiaga, tagab see filter ülimadala peegelduse (<0,3%), kõrge valguse läbilaskvuse (>99%) ja suurepärase värviküllastuse. Üliõhuke 3,3 mm lennundusalumiiniumist raam tagab, et lainurkobjektiividega ei teki vinjeteerimist, samas kui kahekordne keermestus võimaldab lisafiltrite või objektiivikaante virnastamist.

Eelised

Eemaldab tõhusalt soovimatud peegeldused veelt, klaasilt ja mitte-metallist pindadelt, süvendab sinist taevast ning parandab kontrasti ja värviküllastust. Mitmekihiline kate on veekindel, õlikindel, kriimustuskindel ja antistaatiline, muutes selle puhastamise ja hooldamise lihtsaks. Ideaalne maastiku-, reisi- ja välifotograafia jaoks.

Sobib

• Fotograafidele, kes kasutavad objektiive 58 mm filtriniidiga
• Maastiku- ja loodusfotograafia jaoks, et vähendada pimestust ja parandada värve
• Reisi- ja välisvõtetel, kus peegeldused on tavalised
• Videograafidele, kes vajavad ühtlast säritust ja värvi

Peamised tehnilised andmed

• Filtri tüüp: Ringpolarisaator (CPL)
• Filtri läbimõõt: 58 mm
• Seeria: Nano-X
• Katete arv: 28 (14 kihti mõlemal küljel)
• Peegeldusaste: <0,3%
• Klaasi materjal: Jaapani AGC optiline klaas
• Raami materjal: Lennundusalumiiniumisulam
• Raami paksus: 3,3 mm
• Veekindlus: Jah
• Õlikindlus: Jah
• Kriimustuskindlus: Jah
• Antistaatiline: Jah
• Valguse läbilaskvus: >99%
• Keermestus: Kahekordne keermestus
• UV-kaitse: Jah
• Filtri tegur: Umbes 2-4x (1-2 avaastet)

Soovitused

Parimate tulemuste saavutamiseks kasutage objektiivi varju, et minimeerida hajuvat valgust. Puhastage mikrokiudlapiga ja objektiivi puhastusvedelikuga. Hoidke kaasasolevas ümbrises, kui seda ei kasutata.