K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Fujifilm X100 seeria jaoks (must raam)

K&F Concept Nano-X MRC UV Filter on esmaklassiline objektiivikaitse lahendus, mis on spetsiaalselt loodud Fujifilm X100 seeria kaameratele, sealhulgas X100, X100S, X100V, X100F ja X100VI. See kohandatud filter asendab originaalset esirõngast, tagades sujuva integreerimise ja kompromissitu pildikvaliteedi.

Eelised

See UV-filter pakub mitmekihilist vastupidavat katet (MRC) paremaks kaitseks kriimustuste, vee, õli ja peegelduste eest. Üle 99,6% valguse läbilaskvusega tagab see minimaalse mõju pildi selgusele, vähendades samal ajal tõhusalt UV-valgust ja udusust. Üliõhuke lennundusalumiiniumist raam säilitab kaamera kompaktse profiili.

Sobib

• Fujifilm X100
• Fujifilm X100S
• Fujifilm X100V
• Fujifilm X100F
• Fujifilm X100VI

Peamised tehnilised andmed

• Filtri tüüp: UV-filter
• Kate: Nano-X mitmekihiline vastupidav kate (MRC)
• Klaasi materjal: kõrglahutusega optiline klaas
• Raami materjal: lennundusalumiiniumisulam
• Raami disain: üliõhuke
• Valguse läbilaskvus: >99,6%
• Veekindlus: jah (hüdrofoobne)
• Õlikindlus: jah (oleofoobne)
• Kriimustuskindlus: jah
• Peegeldusvastane: jah
• UV-neeldumine: jah
• Värv: must (raam)

Soovitused

Optimaalse kaitse ja pildikvaliteedi tagamiseks kasutage seda filtrit püsiva objektiivikaitsena. Selle kohandatud sobivus tagab, et ei esine vinjeteerimist ja paigaldus on lihtne.