K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Ultra Low Reflection 58mm

K&F Concept Nano-X MRC UV Filter on kvaliteetne kaitsefiltri, mis on loodud objektiivi kaitsmiseks ja pildikvaliteedi parandamiseks. Tänu ülimadalale peegeldusele ja täiustatud Nano-X mitmekihilisele kattele tagab see filter suurepärase valguse läbilaskvuse ja minimaalse pimestamise. Ideaalne fotograafidele, kes otsivad usaldusväärset objektiivikaitset ilma pildikvaliteeti ohverdamata.

Eelised

See filter pakub erakordset kaitset tolmu, niiskuse, kriimustuste ja löökide eest. Selle 28-kihiline kahepoolne kate vähendab peegeldusi alla 0,3%, tagades teravad ja kontrastsed pildid. Üliõhuke 3,3 mm raam hoiab ära vinjeteerimise isegi lainurkobjektiividega, samas kui vett ja õli tõrjuvad omadused muudavad puhastamise lihtsaks.

Sobib

• Fotograafidele, kes kasutavad objektiive 58 mm filtrikeermega
• Välis- ja reisifotograafias, kus objektiivikaitse on hädavajalik
• Stuudio- ja maastikufotograafias, mis nõuab minimaalseid peegeldusi

Peamised tehnilised andmed

• Filtri tüüp: UV kaitsefilter
• Filtri läbimõõt: 58 mm
• Katte tehnoloogia: Nano-X mitmekihiline kate (MRC)
• Kattekihtide arv: 28 kihti (kahepoolne)
• Valguse läbilaskvus: >99,6%
• Peegeldusmäär: <0,3%
• Raami materjal: lennundusalumiiniumisulam
• Klaasi materjal: Jaapani AGC optiline klaas
• Raami paksus: 3,3 mm (üliõhuke)
• Vett hülgav: jah
• Õli hülgav: jah
• Kriimustuskindel: jah
• Antistaatiline: jah
• Pimestamisvastane: jah
• UV neeldumine: jah
• Keerme tüüp: kahepoolne keere (ees ja taga)
• Ühilduvus: objektiivid 58 mm filtrikeermega
• Seeria: Nano-X

Soovitused

Optimaalse jõudluse saavutamiseks kasutage seda filtrit koos objektiivikaane ja puhastuslapiga. Soovitatav on kasutada filtrit püsiva kaitsekihina objektiivil. Veenduge, et filter on kindlalt kinnitatud, et vältida juhuslikku lahtitulekut.