K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Ultra Low Reflection 52mm

K&F Concept Nano-X MRC UV filter on esmaklassiline kaitsefilter, mis on loodud objektiivi kaitsmiseks ja pildikvaliteedi parandamiseks. See kasutab täiustatud Nano-X mitmekihilist vastupidavat katet (MRC) 28 kihiga, saavutades ülimadala peegelduse (<0,3%) ja kõrge valguse läbilaskvuse (>99,6%). Valmistatud Jaapani AGC optilisest klaasist ja lennundusalumiiniumisulamist üliõhukese raamiga, on see filter veekindel, õlikindel, kriimustuskindel ja antistaatiline. Kahekordse keermega disain võimaldab lisafiltrite või objektiivikaante virnastamist. Ideaalne fotograafidele, kes otsivad neutraalset värvitasakaalu ja UV-udu vähendamist ilma vinjeteerimiseta lainurkobjektiividel.

Eelised

Ülimadal peegeldus vähendab pimestamist ja kummitusi. Kõrge läbilaskvus säilitab pildi heleduse ja kontrasti. Mitmekihiline kaitsekate kaitseb vee, õli, kriimustuste ja staatilise elektri eest. Üliõhuke raam väldib vinjeteerimist isegi lainurkobjektiividel. Kahekordne keerme võimaldab lihtsat virnastamist.

Sobib

• Fotograafidele, kes kasutavad 52 mm filtrikeermega objektiive
• Kallite objektiivide esielementide kaitsmiseks
• UV-udu vähendamiseks välis- ja maastikufotograafias
• Neutraalse värvitasakaalu säilitamiseks

Peamised tehnilised andmed

• Filtri tüüp: UV-kaitsefilter
• Filtri läbimõõt: 52 mm
• Kate: Nano-X mitmekihiline vastupidav kate (MRC), 28 kihti
• Valguse läbilaskvus: >99,6%
• Peegeldusaste: <0,3%
• Klaasi materjal: Jaapani AGC optiline klaas
• Raami materjal: Lennundusalumiiniumisulam
• Raami tüüp: Üliõhuke
• Filtri paksus: 3,3 mm (keermeta)
• Veekindel: Jah
• Õlikindel: Jah
• Kriimustuskindel: Jah
• Antistaatiline: Jah
• Keerme tüüp: Kahekordne (ees ja taga)
• Vinjeteerimine: Ei (lainurkobjektiividel)
• Värvi nihe: Neutraalne

Soovitused

Optimaalseks kaitseks ja pildikvaliteediks kasutage seda filtrit koos objektiivi varjukiga ja hoidke seda puhtana mikrokiudlapiga. Sobib nii professionaalsetele kui ka harrastusfotograafidele.