K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Ultra Low Reflection 49mm

K&F Concept Nano-X MRC UV Filter on tipptasemel objektiivi tarvik, mis on loodud fotograafidele, kes nõuavad suurimat optilist selgust ja kaitset. Ülimadala peegelduse ja täiustatud Nano-X mitmekihilise kattega filter vähendab pimestamist, parandab kontrasti ja kaitseb objektiivi tolmu, niiskuse ja kriimustuste eest. Valmistatud Jaapani AGC optilisest klaasist ja lennundusalumiiniumisulamist, tagab see erakordse vastupidavuse ja neutraalse värvitasakaalu, mõjutamata pildikvaliteeti.

Eelised

See UV-filter pakub 99,8% valguse läbilaskvust ja vähem kui 0,3% peegeldust, tagades minimaalse mõju säritusele, pakkudes samal ajal suurepärast UV-kaitset. 28-kihiline Nano-X kate (14 mõlemal küljel) muudab selle veekindlaks, õlikindlaks, kriimustuskindlaks ja antistaatiliseks, hoides objektiivi puhtana ka keerulistes tingimustes. Üliõhuke 3,3 mm raam takistab vinjeteerimist isegi lainurkobjektiividega, muutes selle ideaalseks maastiku-, reisi- ja igapäevafotograafia jaoks.

Sobib kasutamiseks

• Fotograafid, kes kasutavad 49 mm filtriga objektiive
• Välis- ja reisifotograafia, mis vajab objektiivi kaitset
• Maastiku- ja arhitektuuripildid, mis vajavad udu vähendamist
• Kasutajad, kes otsivad neutraalset ja läbipaistvat filtrit ühtlase värvitooni jaoks

Peamised tehnilised andmed

• Filtri tüüp: UV-filter
• Filtri läbimõõt: 49 mm
• Kate: Nano-X mitmekihiline kate (MRC)
• Kattekihtide arv: 28 (14 mõlemal küljel)
• Peegeldusaste: <0,3%
• Valguse läbilaskvus: 99,8%
• Klaasi materjal: Jaapani AGC optiline klaas
• Raami materjal: Lennundusalumiiniumsulam
• Raami paksus: 3,3 mm
• Veekindel, õlikindel, kriimustuskindel, antistaatiline
• UV vähendamine: Jah
• Värvitoon: Neutraalne

Soovitused

Optimaalse jõudluse tagamiseks kasutage filtrit koos objektiivi kaitsekorgiga, kui see pole kasutusel, ja puhastage mikrokiusalapiga. Ideaalne nii harrastus- kui ka professionaalsetele fotograafidele, kes otsivad usaldusväärset objektiivi kaitset ilma pildikvaliteeti kahjustamata.