K&F Concept Nano-X MRC UV Filter 55mm

K&F Concept Nano-X MRC UV Filter on esmaklassiline ultraviolettkaitsefilter, mis on loodud fotograafidele, kes nõuavad kõrgeimat optilist selgust ja objektiivi kaitset. Valmistatud Jaapani AGC optilisest klaasist ja täiustatud Nano-X mitmekindla kattega, vähendab see 55mm filter udusust, parandab kontrasti ja kaitseb objektiivi tolmu, niiskuse, kriimustuste ja UV-valguse eest ilma värvitasakaalu mõjutamata.

Eelised

See filter pakub erakordset valguse läbilaskvust (>99,6%) ja 28 nanokatte kihti, mis tagavad hüdrofoobsed, oleofoobsed, peegeldusvastased, antistaatilised ja kriimustuskindlad omadused. Üliõhuke 3,3mm lennundusalumiiniumist raam väldib vinjeteerimist lainurkobjektiividel, samas kui kahekordne keermestus võimaldab lisafiltrite või objektiivikaante virnastamist.

Sobib

• Fotograafidele, kes kasutavad objektiive 55mm filtriga
• Välis- ja reisifotograafiale, mis nõuab objektiivi kaitset UV-kiirte ja elementide eest
• Professionaalidele, kes otsivad kõrge läbipaistvusega filtrit minimaalse optilise halvenemisega

Peamised tehnilised andmed

• Filtri tüüp: UV (ultraviolett)
• Filtri läbimõõt: 55mm
• Katte tehnoloogia: Nano-X mitmekindel kate (MRC)
• Katete arv: 28 kihti
• Optiline materjal: Jaapani AGC optiline klaas
• Raami materjal: Lennundusalumiiniumisulam
• Raami profiil: Üliõhuke (3,3mm)
• Valguse läbilaskvus: >99,6%
• UV-valguse vähendamine: Jah
• Veekindlus: Jah (hüdrofoobne)
• Õlikindlus: Jah (oleofoobne)
• Kriimustuskindlus: Jah
• Peegeldusvastane: Jah
• Antistaatiline: Jah
• Keermestuse tüüp: Kahekordne (ees ja taga)
• Optiline efekt: Vähendab udusust, parandab selgust, kaitseb objektiivi
• Värvinihe: Puudub
• Ühilduvus: Objektiivid 55mm filtriga
• Seeria: K&F Concept Nano-X

Soovitused

Optimaalse jõudluse tagamiseks hoidke filtrit puhtana, kasutades mikrokiudlappi. See filter on suurepärane valik nii harrastus- kui ka professionaalsetele fotograafidele, kes soovivad kaitsta oma investeeringut, säilitades samal ajal pildikvaliteedi.