K&F Concept UV NANO-X PRO MRC 55mm UV Filter

K&F Concept UV NANO-X PRO MRC 55mm on kvaliteetne UV-filter, mis on loodud objektiivi kaitsmiseks ja pildikvaliteedi parandamiseks. Tänu täiustatud 28-kihilisele mitmekaitsekattele ja nanokattele tagab see üle 99,6% valguse läbilaskvuse, mõjutades pildikvaliteeti minimaalselt. Filter blokeerib tõhusalt 99,9% UV-valgusest, vähendades udusust ja parandades kontrasti välisfotograafias.

Eelised

See filter pakub olulist objektiivi kaitset tolmu, niiskuse, kriimustuste ja löökide eest, kahjustamata optilist jõudlust. Üliõhuke raam (3,3 mm) väldib vinjeteerimist lainurkobjektiividega ning esikeere võimaldab lisafiltrite või objektiivikaante virnastamist. Veekindlad, õlikindlad ja kriimustuskindlad katted muudavad puhastamise ja hooldamise lihtsaks.

Sobib

• Fotograafidele, kes kasutavad objektiive 55 mm filtrikeermega
• Välis- ja maastikufotograafias udususe vähendamiseks ja selguse parandamiseks
• Väärtuslike objektiivide kaitsmiseks keskkonnategurite eest

Peamised tehnilised andmed

• Filtri tüüp: UV-filter
• Filtri läbimõõt: 55 mm
• Seeria: Nano-X Pro
• Katted: 28-kihiline mitmekaitsekate (MRC) + nanokate
• Valguse läbilaskvus: >99,6%
• Optiline materjal: Jaapani AGC optiline klaas
• Raami materjal: Lennundusalumiiniumisulam
• Raami paksus: 3,3 mm
• Veekindel, õlikindel, kriimustuskindel, peegeldusvastane
• UV vähendamine: blokeerib 99,9% UV-valgusest
• Filtri tegur: 1 (särituse kompenseerimine pole vajalik)
• Esikeere: Jah (võimaldab virnastamist)

Soovitused

Optimaalse jõudluse saavutamiseks kasutage seda UV-filtrit koos objektiivi varjukiga, et minimeerida pimestamist ja kaitsta hajuva valguse eest. Puhastage filtrit regulaarselt mikrokiudlapiga, et säilitada selle hüdrofoobsed ja oleofoobsed omadused.