K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Fujifilm X100/X100S/X100F/X100V/X100VI jaoks (KF01.2703)

K&F Concept Nano-X MRC UV Filter on premium objektiivi kaitsefiltrid, mis on loodud spetsiaalselt Fujifilm X100 seeria kaameratele (X100, X100S, X100F, X100V, X100VI). See asendab originaalse objektiivi esirõnga ja tagab kohandatud istuvuse, mõjutamata kaamera kompaktset vormi. Filtris on kasutatud täiustatud Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC) tehnoloogiat, mis pakub suurepärast kaitset tolmu, kriimustuste, niiskuse ja atmosfääri udu eest, säilitades samal ajal erakordse optilise selguse.

Eelised

See UV-filter mitte ainult ei kaitse teie väärtuslikku objektiivi, vaid parandab ka pildikvaliteeti, vähendades udu ja suurendades kontrasti. 28-kihiline mitmekordne kate tagab >99,6% valguse läbilaskvuse, minimeerides peegeldusi ja helkimist. Üliõhuke kosmosetehnoloogia alumiiniumsulamist raam ei lisa lisamassi, säilitades kaamera elegantse disaini. Vett ja õli tõrjuvad omadused muudavad puhastamise lihtsaks, samas kui kriimustuskindlus tagab pikaajalise vastupidavuse.

Sobib

• Fujifilm X100
• Fujifilm X100S
• Fujifilm X100F
• Fujifilm X100V
• Fujifilm X100VI

Peamised tehnilised andmed

• Filtri tüüp: UV-filter
• Katetehnoloogia: Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC)
• Optiline materjal: kõrglahutusega optiline klaas
• Raami materjal: kosmosetehnoloogia alumiiniumsulam
• Kinnitusviis: otsekeermega (asendab originaalse objektiivi esirõnga)
• Valguse läbilaskvus: >99,6%
• Vett ja õli tõrjuv: jah
• Kriimustuskindel: jah
• Peegeldusvastane: jah
• UV-kiirguse neeldumine: jah
• Raami profiil: üliõhuke
• Katete arv: 28 kihti
• Värv: must

Soovitused

Optimaalse kaitse ja pildikvaliteedi tagamiseks kasutage alati kvaliteetset UV-filtrit, nagu K&F Concept Nano-X MRC. See on hädavajalik tarvik fotograafidele, kes soovivad hoida oma Fujifilm X100 seeria objektiivi turvaliselt ilma jõudlust ohverdamata.