SIBERICA PROFESSIONAL Lab Biome Hydration Make-up Removing Cleansing Balm 100ml

SIBERICA PROFESSIONAL Lab Biome Hydration Make-up Removing Cleansing Balm on sügavalt toitev ja niisutav puhastuspalsam, mis on loodud tõhusalt eemaldama meiki ja lisandeid, taastades samal ajal naha loomuliku niiskusbarjääri. Rikastatud postbiootilise fermenteeritud koostisosaga, hüaluroonhappega, Siberi männiõli ja orgaanilise Altai astelpajuõliga, muutub see sulav palsam nahaga kokkupuutel tahkest olekust siidiseks õliks, lahustades isegi veekindla meigi ilma nahka kuivatamata. Sobib kõikidele nahatüüpidele, eriti kuivale ja dehüdreeritud nahale, jättes naha puhtaks, pehmeks ja niisutatuks.

Eelised

See puhastuspalsam pakub mitmeid eeliseid: see eemaldab põhjalikult meigi ja lisandid, annab intensiivset niisutust ja toetab naha mikrobiomi postbiootiliste koostisosadega. Valem on vaba parabeenidest, silikoonidest, mineraalõlidest ja SLS/SLES-ist, muutes selle õrnaks ja sobivaks tundlikule nahale. Dermatoloogiliselt testitud ja loomkatsetevaba, on see vegan toode, mis austab nii teie nahka kui ka keskkonda.

Sobib

• Kõikidele nahatüüpidele, eriti kuivale ja dehüdreeritud nahale
• Igapäevaseks kasutamiseks hommikul ja õhtul
• Neile, kes otsivad õrna, kuid tõhusat meigieemaldajat
• Inimestele, kes otsivad niisutavat ja toitvat puhastuskogemust

Peamised tehnilised andmed

• Toote tüüp: Puhastuspalsam
• Maht: 100 ml
• Koostis: Sulav palsam
• Peamised koostisosad: Postbiootiline fermenteeritud koostisosa, hüaluroonhape, Siberi männiõli, orgaaniline Altai astelpajuõli
• Vaba: Parabeenidest, silikoonidest, mineraalõlidest, SLS/SLES-ist
• Dermatoloogiliselt testitud: Jah
• Vegan: Jah
• Loomkatsetevaba: Jah
• Pakend: Purk
• Kollektsioon: Lab Biome

Soovitused

Parimate tulemuste saavutamiseks kanna väike kogus palsamit kuivale nahale ja masseeri õrnalt, et meik ja lisandid lahustuksid. Lisa veidi vett emulgeerimiseks, seejärel loputa põhjalikult. Jätka oma lemmiktooniku ja niisutajaga. Kasuta iga päev puhta, niisutatud ja särava jume nimel.